Anàlisi dels requisits de rendiment deobjectius de titanien diferents indústries
Gmail:alisa@jmyunti.com
I. Requisits bàsics de rendiment dels objectius de titani
① Puresa: com un dels principals indicadors de rendiment dels materials objectiu, la puresa té un impacte vital en el rendiment de les pel·lícules primes. En aplicacions pràctiques, els requisits per a la puresa de l'objectiu varien d'una indústria a una altra. Per exemple, a la indústria de la microelectrònica, amb l'augment continu de la mida de les hòsties de silici i la disminució contínua de l'amplada del cablejat, els requisits de puresa de l'objectiu també augmenten. En el passat, la puresa objectiu del 99,995% podia complir els requisits del procés de 0.35um IC, però ara la preparació de línies de 0.18um requereix que la puresa objectiu arribi al 99,999% o fins i tot al 99,9999%.
② Contingut d'impureses: les impureses del sòlid objectiu i l'oxigen i el vapor d'aigua dels porus són les principals fonts de contaminació de les pel·lícules dipositades. Per tant, els objectius per a diferents finalitats tenen requisits diferents pel que fa al contingut d'impureses. Per exemple, els objectius d'alumini pur i d'aliatge d'alumini utilitzats a la indústria dels semiconductors tenen requisits especials per al contingut de metalls alcalins i el contingut d'elements radioactius.
③ Densitat: per reduir els porus del sòlid objectiu i millorar el rendiment de la pel·lícula sputtered, normalment es requereix que l'objectiu tingui una densitat més alta. La densitat del material objectiu no només afecta la velocitat de pulverització, sinó que també afecta les propietats elèctriques i òptiques de la pel·lícula. A més, la millora de la densitat i la resistència del material objectiu també pot fer que resisteixi millor l'estrès tèrmic durant el procés de pulverització. Per tant, la densitat també és un dels indicadors clau de rendiment del material objectiu.
④ Mida del gra i distribució de la mida del gra: el material objectiu sol ser una estructura policristalina i la mida del gra pot variar des de micres fins a mil·límetres. Per al mateix material objectiu, la velocitat de pulverització d'un objectiu amb grans fins sol ser més ràpid que el d'un objectiu amb grans gruixuts; i la distribució del gruix de la pel·lícula dipositada per polverització d'un objectiu amb una petita diferència de mida del gra (distribució uniforme) és més uniforme.
2. Requisits de puresa per a objectius de titani en diferents indústries
① Objectius de titani utilitzats en circuits integrats: els circuits integrats tenen requisits de puresa extremadament alts per als objectius de titani, normalment superiors al 99,995% per garantir el rendiment i l'estabilitat de la pel·lícula.
② Objectius de titani utilitzats en pantalles de pantalla plana: les pantalles de pantalla plana inclouen pantalles de cristall líquid, pantalles de plasma, pantalles electroluminescents i pantalles d'emissió de camp. Aquestes pantalles sovint utilitzen la tecnologia de recobriment per dipòsit per dipositar pel·lícules primes durant el procés de fabricació. Entre ells, els objectius de titani, com un dels objectius importants de pols, normalment han de tenir una puresa superior al 99,9%. A més, els objectius de titani també es poden utilitzar àmpliament en camps d'alta tecnologia com l'electrònica, la indústria de la informació, la decoració de la llar i la fabricació de vidre d'automoció. En aquestes indústries, els objectius de titani s'utilitzen principalment per revestir circuits integrats, pantalles de pantalla plana o com a decoració i recobriment de vidre. Mitjançant l'optimització del rendiment i la puresa dels objectius de titani, es poden satisfer els requisits de diferents indústries per al rendiment i l'estabilitat de la pel·lícula.
Empresa: Baoji Dynamic Trading Co., Ltd
País: Xina
Afegiu: carretera de Baoti, Jintai, ciutat de Baoji, Shaanxi, Xina
Cel:+86 18391896637(WHATSAPP)/18391894207
Gmail:alisa@jmyunti.com
Lloc web: www.jm-titanium.com
